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            Contributions To Plasma Physics
            收藏雜志
            • 數(shù)據(jù)庫(kù)收錄SCIE
            • 創(chuàng)刊年份1985年
            • 年發(fā)文量66
            • H-index42

            Contributions To Plasma Physics

            期刊中文名:對(duì)等離子體物理學(xué)的貢獻(xiàn)ISSN:0863-1042E-ISSN:1521-3986

            該雜志國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng):CONTRIB PLASM PHYS,是由出版商Wiley-VCH Verlag出版的一本致力于發(fā)布物理與天體物理研究新成果的的專(zhuān)業(yè)學(xué)術(shù)期刊。該雜志以PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS研究為重點(diǎn),主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文文章、行業(yè)最新科研成果,扼要報(bào)道階段性研究成果和重要研究工作的最新進(jìn)展,選載對(duì)學(xué)科發(fā)展起指導(dǎo)作用的綜述與專(zhuān)論,促進(jìn)學(xué)術(shù)發(fā)展,為廣大讀者服務(wù)。該刊是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,在國(guó)際上有很高的學(xué)術(shù)影響力。

            基本信息:
            期刊簡(jiǎn)稱(chēng):CONTRIB PLASM PHYS
            是否OA:未開(kāi)放
            是否預(yù)警:
            Gold OA文章占比:13.75%
            出版信息:
            出版地區(qū):GERMANY
            出版周期:Bimonthly
            出版語(yǔ)言:Multi-Language
            出版商:Wiley-VCH Verlag
            評(píng)價(jià)信息:
            中科院分區(qū):4區(qū)
            JCR分區(qū):Q3
            影響因子:1.3
            CiteScore:2.9
            雜志介紹 中科院JCR分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 投稿經(jīng)驗(yàn)

            雜志介紹

            Contributions To Plasma Physics雜志介紹

            《Contributions To Plasma Physics》是一本以Multi-Language為主的未開(kāi)放獲取國(guó)際優(yōu)秀期刊,中文名稱(chēng)對(duì)等離子體物理學(xué)的貢獻(xiàn),本刊主要出版、報(bào)道物理與天體物理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的研究動(dòng)態(tài)以及在該領(lǐng)域取得的各方面的經(jīng)驗(yàn)和科研成果,介紹該領(lǐng)域有關(guān)本專(zhuān)業(yè)的最新進(jìn)展,探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法,以促進(jìn)學(xué)術(shù)信息交流,提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄,為該領(lǐng)域相關(guān)學(xué)科的發(fā)展起到了良好的推動(dòng)作用,也得到了本專(zhuān)業(yè)人員的廣泛認(rèn)可。該刊最新影響因子為1.3,最新CiteScore 指數(shù)為2.9。

            本刊近期中國(guó)學(xué)者發(fā)表的論文主要有:

            • Experimental study of the discharge characteristics of a 3D vortex gliding arc plasmatron

              Author: You, Tiancheng; Wang, Cheng; Yang, Chengpeng; Wang, Fangquan; Xia, Weidong

            • Effect of external fields on pattern formation of charged grains in plasma

              Author: Chen, Zhidong; Li, Mengdie; Li, Jinfeng; Wang, Youmei; Yu, Ming-Young

            • Research on characteristics of decoupled electroaerodynamic thruster with auxiliary electrode

              Author: Zhou, Desheng; Liu, Qiang; Tang, Jingfeng; Zhang, Haoran; Zhou, Liwei; Wei, Liqiu; He, Yongfeng

            • Small-amplitude kinetic Alfven solitons for hot electrons taking regularized kappa distribution in Earth's inner magnetosphere

              Author: Li, Yushu; Liu, Yong

            英文介紹

            Contributions To Plasma Physics雜志英文介紹

            Aims and Scope of Contributions to Plasma Physics:

            Basic physics of low-temperature plasmas;

            Strongly correlated non-ideal plasmas;

            Dusty Plasmas;

            Plasma discharges - microplasmas, reactive, and atmospheric pressure plasmas;

            Plasma diagnostics;

            Plasma-surface interaction;

            Plasma technology;

            Plasma medicine.

            中科院SCI分區(qū)

            Contributions To Plasma Physics雜志中科院分區(qū)信息

            2023年12月升級(jí)版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類(lèi):物理與天體物理 4區(qū)
            小類(lèi):

            PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            物理:流體與等離子體 4區(qū)

            2022年12月升級(jí)版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類(lèi):物理與天體物理 3區(qū)
            小類(lèi):

            PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            物理:流體與等離子體 4區(qū)

            2021年12月舊的升級(jí)版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類(lèi):物理與天體物理 4區(qū)
            小類(lèi):

            PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            物理:流體與等離子體 4區(qū)

            2021年12月基礎(chǔ)版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類(lèi):物理 4區(qū)
            小類(lèi):

            PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            物理:流體與等離子體 4區(qū)

            2021年12月升級(jí)版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類(lèi):物理與天體物理 4區(qū)
            小類(lèi):

            PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            物理:流體與等離子體 4區(qū)

            2020年12月舊的升級(jí)版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類(lèi):物理與天體物理 4區(qū)
            小類(lèi):

            PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            物理:流體與等離子體 4區(qū)

            中科院SCI分區(qū):是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心科學(xué)計(jì)量中心的科學(xué)研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開(kāi)始發(fā)布,延續(xù)至今;2019年推出升級(jí)版,實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)版、升級(jí)版并存過(guò)渡,2022年只發(fā)布升級(jí)版,期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個(gè)區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進(jìn)行分區(qū),即前5%為該類(lèi)1區(qū),6%~20%為2區(qū)、21%~50%為3區(qū),其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少,雜志質(zhì)量相對(duì)也高,基本都是本領(lǐng)域的頂級(jí)期刊。

            JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

            Contributions To Plasma Physics雜志 JCR分區(qū)信息

            按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
            學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            收錄子集:SCIE
            分區(qū):Q3
            排名:29 / 40
            百分位:

            28.7%

            按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
            學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
            收錄子集:SCIE
            分區(qū):Q3
            排名:26 / 40
            百分位:

            36.25%

            JCR分區(qū):JCR分區(qū)來(lái)自科睿唯安公司,JCR是一個(gè)獨(dú)特的多學(xué)科期刊評(píng)價(jià)工具,為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)信息的期刊評(píng)價(jià)資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū),設(shè)置了254個(gè)具體學(xué)科。JCR分區(qū)根據(jù)每個(gè)學(xué)科分類(lèi)按照期刊當(dāng)年的影響因子高低將期刊平均分為4個(gè)區(qū),分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個(gè)部分的。

            CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

            Contributions To Plasma Physics雜志CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

            • CiteScore 值:2.9
            • SJR:0.351
            • SNIP:0.601
            學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
            大類(lèi):Physics and Astronomy 小類(lèi):Condensed Matter Physics Q3 252 / 434

            42%

            歷年影響因子和期刊自引率

            投稿經(jīng)驗(yàn)

            Contributions To Plasma Physics雜志投稿經(jīng)驗(yàn)

            該雜志是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,在國(guó)際上有較高的學(xué)術(shù)影響力,行業(yè)關(guān)注度很高,已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄,該雜志在PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS綜合專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域?qū)I(yè)度認(rèn)可很高,對(duì)稿件內(nèi)容的創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)性要求很高,作為一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,一般投稿過(guò)審時(shí)間都較長(zhǎng),投稿過(guò)審時(shí)間平均 偏慢,4-8周 ,如果想投稿該刊要做好時(shí)間安排。版面費(fèi)不祥。該雜志近兩年未被列入預(yù)警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請(qǐng)咨詢(xún)客服。

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            若用戶(hù)需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:WILEY-V C H VERLAG GMBH, PO BOX 10 11 61, WEINHEIM, GERMANY, D-69451。

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